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manteau asymétrique à design structuré
Design patchwork, design asymétrique, voile attaché, encolure asymétrique, boutonnière décalée sur le devant, poches latérales fendues, ourlet asymétrique, doublure intégrale.
Composition
Extérieur : rayonne 53%, laine 47%
Doublure : cupro 100%
Conseils d'entretien
Nettoyage à sec uniquement
ID FARFETCH : 22144066
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